Ionenstrahlsputteranlage

Ausgeschrieben wird eine Ionenstrahlsputteranlage zur Herstellung von optischen Dünnfilmen. Die Ionenstrahlsputteranlage für optische Dünnfilme bildet das Herzstück der Beschichtungstechnologie für integrierte optische und quantenoptische Bauteile und findet ihren Platz im Reinraum der Universität Paderborn. Das System ermöglicht die Herstellung von mindestens vier unterschiedlichen, untereinander mischbaren dielektrischen Schichtmaterialien mittels sputtern oder besser reaktiven sputtern. Die prozessbegleitende Kontrolle der aufgebrachten Schichten erfolgt mittels eines breitbandigen optischen Messsystems direkt auf der Probe oder auf einem Referenzstück neben ihr. Ein Loadlock-System erlaubt das Ein- und Ausschleusen von Proben bis zu einer Größe von 4 Zoll. Gesucht wird ein Gesamtsystem mit anwenderfreundlicher Software und etablierten Rezepten für einen flexiblen und reproduzierbaren Prozess. Die detaillierte Leistungsbeschreibung entnehmen Sie bitte dem anliegenden Kriterienkatalog in den Vergabeunterlagen.