XeF2-Gasphasenätzer IZHH

Im Rahmen der Quantencomputing-Initiative des DLR werden in einem Reinraum am Innovationszentrum Hamburg Quantencomputer mit der Ionenfallen-Technologie in Zusammenarbeit von Industrie und DLR gebaut. Für die Ausstattung des neuen Reinraums wird ein spezifischer Maschinenpark zur Herstellung, Bearbeitung und Integration von Ionenfallenchips und verwandten Quantentechnologien benötigt. Hierzu werden Anlagen für eine klassische Mikrostrukturierungsprozesskette für den Reinraum beschafft. Teil der Prozesskette sind die Abscheidung und Strukturierung metallischer, dielektrischer und Halbleiter-Dünnschichten auf Substraten mit einem maximalen Durchmesser von 150 mm. Zur Strukturierung von Si-Schichten soll eine Anlage zum XeF2-basierten Gasphasenätzen beschafft werden. Mit diesem Verfahren sollen unter anderem Si-Schichten isotrop auf 150 mm Wafern in einem trockenen Verfahren geätzt werden, zum Beispiel zur Hinterätzung von als Maske fungierenden Schichten oder als Release-Ätzung. Der Auftragnehmer schuldet die Lieferung, Einbringung der Anlage in die Laborräumlichkeiten des Auftraggebers, Abnahme, Inbetriebnahme und Schulung gemäß Spezifikation. Darüber hinaus sind Service- und Wartungsleistungen zu erbringen.