Waferimplantationskammer im Tellerraddesign.

Auftragsgegenstand ist die Konstruktion, Fertigung, Lieferung und Inbetriebnahme einer Vakuum-Prozeßkammer zur Ionenimplantation von vorzugsweise Si- Wafern (SEMI-Standard: 2“ bis 200 mm Durchmesser). Die Prozessierung erfolgt als Si-Einzelwafer-Ionenimplantation, wobei die Kammer eine vorgegebene Anzahl von Wafern aufnehmen muß. Die Bestückung der Prozeßkammer mit Si-Wafern erfolgt manuell. Die Prozeßkammer wird an einer beim Auftraggeber vorhandene Beamline eines 500 kV Ionenimplanters (horizontale Mittelachse Strahlrohr: 1 535 mm) unter Beachtung der räumlichen Gegebenheiten in einem Reinraumzelt installiert werden. Die räumlichen Maße sind den Ausschreibungsunterlagen zu entnehmen. Die Schnittstelle zwischen Beamline und Prozesskammer wird durch einen kundenseitig vorhandenen Schieber mit 11 cm langem Rohrstück (ISO- K320) definiert.