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Zuschlag erteilt Nur 1 Angebot Offenes Verfahren (EU-weit) · veröffentlicht am 22.04.2020

Tiefe Oxidätzkammer „Synapse“

Auftraggeber: IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik · Frankfurt (Oder)

IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik hat den Auftrag für Labor- und Messtechnik in Frankfurt (Oder) am 22.06.2020 vergeben, Zuschlag an SPTSTechnologies Limited. Zuschlagssumme nach den Angaben der Bekanntmachung: 824.768 €. Eingegangen: 1 Angebot.

Zuschlag an

SPTSTechnologies Limited South Wales

Summe
824.768 €
Angebote
1 Nur 1 Angebot
Zuschlag
22.06.2020

Quelle: Bekanntmachung auf TED (© Europäische Union), veröffentlicht am 11.11.2020.

Angaben in Kürze

Aus den Feldern, ohne KI
Was
Labor- und Messtechnik: Tiefe Oxidätzkammer „Synapse“
Wo
Frankfurt (Oder), Brandenburg
Wer kann anbieten
Jedes Unternehmen, das die Anforderungen der Vergabeunterlagen erfüllt.
Laufzeit
1 Monat

Automatisch aus den Feldern der Bekanntmachung vom 11.11.2020, ohne KI. Die Branche ordnen wir selbst zu. Maßgeblich ist die Bekanntmachung. Original lesen ↗ · Fehler melden

Leistungsumfang

Beschreibung laut Bekanntmachung

1. Synapse Prozesskammer für Tiefes Oxidätzen, zu installieren an einem vorhandenen fxP Versalis Transportmodul von Fa. SPTS an dem bereits 1x Rapier- und 1x APM-Kammer montiert sind; 2. Mindestanforderung an Kammer: 2.1. Installation in Reinraum Klasse 1, 2.2. Einsatzgebiet Tiefes Oxidätzen (low pressure + high density plasma) von 200 mm Wafer, 2.3. Hardware und Prozess muss vollständig mit state of the art Software gesteuert und in die bestehende Anlage und Anlagensteuerung integriert werden, ohne das bereits vorhandene Prozesse und Hardwarekomponenten davon beeinflusst werden, 2.4. für die gesamte Kammer und für das geänderte Gesamtsystem muss die CE-Konformität erklärt werden, 2.5. Kammer entspricht der aktuellen EG-Maschinenrichtlinie. 3. Kammerausstattung: 3.1. Planare ICP source, 3.2. Source Generator für RF, 3.3. Bias Generator für RF, 3.4. Matching unit für source RF/bias RF, …

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1. Synapse Prozesskammer für Tiefes Oxidätzen, zu installieren an einem vorhandenen fxP Versalis Transportmodul von Fa. SPTS an dem bereits 1x Rapier- und 1x APM-Kammer montiert sind; 2. Mindestanforderung an Kammer: 2.1. Installation in Reinraum Klasse 1, 2.2. Einsatzgebiet Tiefes Oxidätzen (low pressure + high density plasma) von 200 mm Wafer, 2.3. Hardware und Prozess muss vollständig mit state of the art Software gesteuert und in die bestehende Anlage und Anlagensteuerung integriert werden, ohne das bereits vorhandene Prozesse und Hardwarekomponenten davon beeinflusst werden, 2.4. für die gesamte Kammer und für das geänderte Gesamtsystem muss die CE-Konformität erklärt werden, 2.5. Kammer entspricht der aktuellen EG-Maschinenrichtlinie. 3. Kammerausstattung: 3.1. Planare ICP source, 3.2. Source Generator für RF, 3.3. Bias Generator für RF, 3.4. Matching unit für source RF/bias RF, 3.5. Temperatur gemanagte Maglev Turbopumpe, 3.6. beheizbares VAT pendulum valve, 3.7. Digitale MFC gesteuerte Gaslinien, Gase und MFC Größen noch zu definieren anhand der Prozessspezifikation, 3.8. Ceramic echuck mit He back side pressure, 3.9. Optisches Endpunktsystem für Prozesskontrolle, 3.10. Chiller passend zur Kammer, der die Prozessspezifikation garantiert. 4. Prozess: 4.1. Mindestanforderung Prozessspezifikation. a) Allgemein: Oxidätzen: — Selektivität zum Resist > 5:1; — Selektivität zu Si > 15:1; — Oxidätzrate > 500 nm/min; — Uniformity +/- 3 %. Nitridätzen: — Nitridätzrate > 200 nm/min; — Oxid/Nitrid-Selektivität > 5:1; — Nitrid/Oxid-Selektivität > 4:1. b) Prozess: — Ätzen von 20 Müm dicken Oxidschichten über Resist mit Stopp auf Si; — Profilwinkel 84 bis 90Grad; — space width > 10 Müm. 4.2. nach Installation der Kammer Nachweis eines vom IHP definierten Prozesses. 5. System allgemein: 5.1. Zusätzlich 12 Monate Garantie, 5.2. Installation und Inbetriebnahme. 6. Dokumente: 6.1. Facility Installation manual und FDS, 6.2. Maintenance manual, 6.3. Servicemanuals (u. a. Schaltpläne, Teileliste), 6.4. Sicherheitsdokumentation und Bedienerdokumentation, 6.5. OEM Dokumentation verbauter Teile, 6.6. User guide. 7. Training: 7.1. Operation and maintenance chamber training. 8. Weitere optionale Anforderungen: 8.1. verlängerte elektrische Kabel (20m), 8.2. 20 m Schlauch für chiller, 8.3. Verbrauchsmaterial kit, 8.4. Ersatzteil kit. 9. Lieferung DDP, CIP oder DAP nach Incoterms 2010 Wareneingang IHP.

Erfüllungsort

Ort
nicht angegeben
Bundesland
Brandenburg
NUTS
DE403

Verlauf

  1. 22.04.2020 Ausschreibung veröffentlicht
  2. 11.11.2020 Ergebnis veröffentlicht

Häufige Fragen

Wer hat den Auftrag bekommen?

Den Zuschlag hat SPTSTechnologies Limited erhalten, Summe 824.768 €.

Quellen Bekanntmachung auf TED ↗ Daten: TED – Tenders Electronic Daily, © Europäische Union, Weiterverwendung mit Quellenangabe. Namen und persönliche Kontaktdaten von Ansprechpersonen entfernen wir automatisch. Ist uns etwas entgangen? Fehler melden

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