PLD Anlage HEMF.

Lieferung einer Pulsed Laser Deposition Anlage mit 2 Beschichtungskammern, Vakuumtransfersystem und Ladekammersystem Das Projektziel ist der Aufbau einer Beschichtungsanlage zur explorativen kombinatorischen Erforschung von neuartigen Halbleitermaterialien für die Energiewandlung. Kombinatorische Materialforschung erlaubt eine deutliche Beschleunigung der Herstellung neuer Materialien und eine reproduzierbare Durchschreitung des Phasenraums multinärer Verbindungen. Hierzu soll eine Pulsed-Laser Deposition (PLD) Beschichtungsanlage mit 2 Beschichtungskammern die mit einem UHV Transfer mit Analytikkammern und Loadlock verbunden ist, beschafft werden. Das Be- und Entladen der Proben sowie der Targets soll in Inertgasathmosphäre erfolgen können. Die PLD Anlage soll die software-kontrollierte Erzeugung von Kompositionsgradienten, sowie Temperaturgradienten während der Materialabscheidung erlauben.