Optische Profilometrie IZHH

Im Rahmen der Quantencomputing-Initiative des DLR werden in einem Reinraum am Innovationszentrum Hamburg Quantencomputer mit der Ionenfallen-Technologie in Zusammenarbeit von Industrie und DLR gebaut. Für die Ausstattung des neuen Reinraums wird ein spezifischer Maschinenpark zur Herstellung, Bearbeitung und Integration von Ionenfallenchips und verwandten Quantentechnologien benötigt. Hierzu werden Anlagen für eine klassische Mikrostrukturierungsprozesskette für den Reinraum beschafft. Teil der Prozesskette sind die Abscheidung und Strukturierung metallischer, dielektrischer und Halbleiter-Dünnschichten auf Substraten mit einem maximalen Durchmesser von 150 mm. Für die Bewertung der Prozesse werden verschiedene Verfahren der Metrologie benötigt. Zur Qualifikation und Kontrolle verschiedener Prozesse (z.B. Beschichtung mit Lack, Abscheidung von Metallen und Dielektrika, Substrat Tiefenätzen, …) soll ein Messgerät für die optische Profilometrie eingesetzt werden. Die optische Profilometrie erlaubt die berührungsfreie Charakterisierung der Probendicke und -topographie und ermöglicht somit unter anderem Rückschlüsse auf die mechanische Verspannung von Schichtstapeln, Tiefen geätzter Kavitäten sowie die Gleichmäßigkeit von Polierprozessen. Weitere integrierte Sensoren erlauben die Bestimmung von Schichtdicken mittels Interferometrie und Reflektometrie. Die Automatisierung des Messgeräts ermöglicht einen hohen Durchsatz und bedienerunabhängige Ergebnisse. Die Ausschreibung umfasst lediglich die spezifizierte Anlage, die dafür benötigten Medien und Peripherien werden vom Auftraggeber separat bereitgestellt. Der Auftragnehmer schuldet die Lieferung, Einbringung der Anlage in die Laborräumlichkeiten des Auftraggebers, Abnahme, Inbetriebnahme und Schulung gemäß Spezifikation. Darüber hinaus sind Service- und Wartungsleistungen zu erbringen.