Maskenlithografie

Die Maskenlithografie stellt das Kernstück der waferprozessierenden Infrastruktur dar und wird im Reinraum der Universität Paderborn aufgestellt. Eine Entwicklung von waferskaligen Bauelementen stellt große Anforderungen an die Wafergröße (bis zu 4 Zoll), die Strukturgröße und die Strukturhomogenitäten. Die verwendeten optischen Bauelemente basieren auf periodischen Strukturen, die eine extrem hohe Anforderung an die Periodenlänge stellen. Es sollen Einzelbauelemente in der Maskenlithografie zu einer Baugruppe auf Wafergröße zusammengefügt und hergestellt werden können. Die detaillierte Leistungsbeschreibung entnehmen Sie bitte den Vergabeunterlagen (Dokument: Kriterienkatalog).