Lieferung eines Lithographie-Systems

Benötigt wird ein leistungsfähiges Lithographie-System, mit dem Strukturen auf Längenskalen von 30 nm bis oberhalb 1 mm in geeignetem Resist definiert werden können, um durch Folge-Prozesse wie Metallabscheidung und nasschemisches Ätzen funktionale Nanostrukturen herzustellen. Zusätzlich soll das System eine hochauflösende Bildgebung der Topographie von Nanostrukturen ermöglichen. Um diese Anforderungen zu erfüllen, werden 2 Geräte benötigt, die mit unterschiedlichen Lithographie-Technologien arbeiten. Die Leistung wird in 2 Lose geteilt. — Los 1: System zur maskenlosen, parallelen Photolithographie; — Los 2: System zur AFM-basierten Thermolithographie.