Lieferung einer universellen Elektronenstrahlgroßanlage mit der Möglichkeit zur Pulverzuführung und Eigenschaftsanalyse

Universelle Elektronenstrahlgroßanlage mit der Möglichkeit zur Pulverzuführung und Eigenschaftsanalyse. Die Anlage soll die Bauteilherstellung im Vakuum durch eine gezielte Materialkonsolidierung auf einem vertikal verfahrbaren Tisch erlauben. Der Energieeintrag erfolgt mittels Elektronenstrahl. Mit Hilfe eines Systems für die Pulverzuführung sollen Schichten in einem Dickenbereich von 30 μm – 200 μm abgebildet werden können. Die ausgeschriebene Anlage muss die Implementierung einer vom Auftraggeber entwickelten, vektorbasierte Strahlsteuerung erlauben. Das Anlagenkonzept soll zudem Hardware (druckluftbetriebene Strahleinheit) zur Pulverrezyklierung berücksichtigen.