Galvanik IZHH

Im Rahmen der Quantencomputing-Initiative des DLR werden in einem Reinraum am Innovationszentrum Hamburg Quantencomputer mit der Ionenfallen-Technologie in Zusammenarbeit von Industrie und DLR gebaut. Für die Ausstattung des neuen Reinraums wird ein spezifischer Maschinenpark zur Herstellung, Bearbeitung und Integration von Ionenfallenchips und verwandten Quantentechnologien benötigt. Gegenstand dieser Ausschreibung ist insofern eine Anlage für eine klassische Mikrostrukturierungsprozesskette für den Reinraum. Die Prozesskette umfasst unter anderem die Beschichtung von Metallschichten auf Halbleitersubstraten mit einem maximalen Durchmesser von 150 mm. Zu liefern ist eine Prozessanlage Galvanik, die der Herstellung von mikrometerdicken Metallfilmen auf strukturierten oder planaren Substraten von bis zu 150 mm Durchmesser dienen soll. Die Anlage soll für die strombasierte Abscheidung von Gold (Au), Kupfer (Cu) und Zinn (Sn) konzipiert werden, wobei die drei Prozesse zeitgleich zur Verfügung stehen. Als Schichtdicken werden je nach Metall 1 μm bis 50 μm angestrebt. Die Bearbeitung der Wafer erfordert eine partikelfreie und sichere Umgebung die durch ein geeignete Laminarflowbank mit Abluftabzug in der Arbeitsfläche gewährleistet wird. Für den Arbeitsschutz und zur Reduktion der benötigten Abluftmenge im Betrieb soll die Arbeitsbank der Galvanikanlage als Chemikalienabzug (Digestorium) mit integrierten Zuluftfiltereinheiten (Fan Filter Unit FFU) und beweglicher Frontscheibe ausgeführt werden. Die Anlage wird in einem Reinraum der Klasse ISO 5 aufgestellt und betrieben. Der Auftragnehmer schuldet die Lieferung, Einbringung der Anlage in die Laborräumlichkeiten des Auftraggebers, Abnahme, Inbetriebnahme, eine Schulung sowie die Erstbefüllung der Galvanikbäder mit Elektrolyten gemäß Spezifikation. Darüber hinaus sind Service- und Wartungsleistungen zu erbringen.