Evaporator

Es soll eine Vakuumbeschichtungsanlage zur Metallisierung von Si Proben (typische Größe 4x4 cm, Dicke <1 mm) angeschafft werden. Es sollen mindestens vier Proben parallel beschichtet werden können. Die Anlage soll mindestens 3 Quellen besitzen, wobei sowohl Verdampferquellen als auch Sputterquellen möglich sind. Typische Materialien umfassen Aluminium, Titan, Platin und Nickel. Innerhalb eines Prozesses sollen die Möglichkeit bestehen mehrere Metalle nacheinander auf alle Proben abzuscheiden. Typische Schichtdicken betragen 10-1000 nm. Ein Beschichtungsrun sollte inklusive Probenwechsel/Schleusung bei einer Schichtdicke von 100 nm nicht länger als eine Stunde dauern. Außerdem soll die Möglichkeit vorgesehen werden über Schattenmasken eine strukturierte Metallschicht auf den Proben zu erzeugen. Die Schattenmaske muss sich außerhalb der Anlage (ggfs. mittels Mikroskop) relativ zur Probe justieren lassen und so fixiert sein, dass sie während des Beschichtungsprozesses nicht verrutscht.