Beschichtungsanlage mit konfogalen Magnetron-Quellen

Die Westsächsische Hochschule Zwickau beabsichtigt für Lehre und Forschung und den Kauf einer Beschichtungsanlage mit konfokalen Magnetron-Quellen. Anforderungen an die Gesamtanlage und Steuerung 1.1 Prozesskammer mit drei Sputterquellen und einer Ionenquelle 1.2 Schleuse mit Einzelsubstrat (Carrier) 1.3 Automatischer Rezeptablauf (Quellsteuerung, Bewegungssteuerung, Shuttersteuerung….) 1.4 Bei Multischichten müssen für jede Einzelschicht Zeit- und Quellleistungen vorgebbar sein (z.B. über ascii-Tabelle) 1.5 Protokollierung wesentlicher Prozessparameter (Drücke, elektrische Parameter der Quellen, Bewegungen, …) 1.6 Substratanforderungen • Durchmesser bis 150mm • Dicke bis 50mm (Mindestanforderung: 30mm) • Masse bis 1,5kg 1.7 Vakuum- und Prozessgasanforderungen • Vakuumerzeugung mit trockenlaufenden Pumpen • Prozesskammer: pEnd <10-6 mbar nach 24h Pumpzeit • Schleusenkammer: pEnd <10-5 mbar • Prozessgase: Ar, O2, N2 (für jedes Gerät jeweils einen eigenen Kanal) 1.8 Beschichtungsquellen • Konzentrische Anordnung von 3 zirkularen Beschichtungsquellen (Anordnung möglichst senkrecht zur Substratoberfläche und unter möglichst geringem Abstand) • Targetgröße: rund 100mm Durchmesser • Quellen 1 und 2: DC Magnetrons, die prinzipiell auch mit RF-Anregung betrieben werden können (d.h. Verwendung koaxialer Kabel); DC-Leistungsversorgungen: mind. 1kW, stabile Entladung mit Ar bis 1.10-3 mbar möglich • Quelle 3: RF-Magnetron; Leistungsversorgung: f=13,56 MHz, Pmax = 1,2…..1,5 kW • Grundausstattung mit folgenden Targetmaterialien: Al, Ti, Si mit Reinheiten ≥ 3N und Targetdicken = 5-6mm 1.9 Ätzquelle • RF-Ionenquelle, die auf den konfokalen Punkt der Anlage ausgerichtet ist 1.10 Substratbewegung • Eigenrotation mit f=1Hz • (Manuelle) Einstellung des Abstandes zwischen Substratmittelpunkt und konfokalem Punkt der Sputterquellen