Beschaffung einer Atomic Layer Deposition Anlage

Es wird beabsichtigt, ein Atomic Layer Deposition System zu erwerben. Zur Verwendung durch mehrere Forschungsgruppen muss das System einen möglichst flexiblen Betrieb zulassen. Standardmäßig soll zunächst der abwechselnde/parallele Betrieb mit Precursoren zur thermischen Abscheidung von Al2O3, TiO2 und ZnO möglich sein, ohne Umbaumaßnahmen beim Wechsel der Precursoren. Längerfristig ist zusätzlich die Abscheidung von SiO2 (sowie der Einsatz temperaturempfindlicher Substrate) geplant. Das System muss daher, wenn nicht direkt beinhaltet, für eine zukünftige Aufrüstung mit einer remote Plasma- oder Ozon-Quelle, sowie die zusätzlich benötigten Precursoren vorbereitet sein. Das Vakuumsystem muss entsprechend mit einer Fomblin- oder Trockenpumpe für den Betrieb mit O2 ausgestattet sein. Für den flexiblen Einsatz muss die Probenkammer mind. für Substrate von 100 mm x 50 mm ausgelegt sein und einen Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 350 oC abdecken.