AFM Messgerät

Ausgeschrieben wird in diesem Verfahren ein AFM Messgerät. Das AFM soll das Kernstück der topographischen Untersuchung von Oberflächen mit Nanometerauflösung darstellen und im Reinraum der Universität Paderborn aufgestellt werden. Eine Analyse von waferskaligen Bauelementen stellt große Anforderungen an die Wafergröße (bis zu 2"), die Strukturgröße und die Strukturhomogenitäten. Die verwendeten optischen Bauelemente basieren auf zum Beispiel Wellenleiterstrukturen, die eine extrem hohe Anforderung an die Strukturhomogenität stellen. Daher ist es unerlässlich die Wellenleiter verlässlich und hochauflösend zu vermessen. Außerdem soll ein AFM die Option eines PFM bieten, welches den Kristall auf Änderungen der Kristallstruktur analysieren kann. Diese Veränderungen zu Analysieren ist unerlässlich für die Realisierung von quantenoptischen Bauelementen. Die detaillierte Leistungsbeschreibung entnehmen Sie bitte dem Dokument "Kriterienkatalog" in den Vergabeunterlagen.