A741 PVD Anlage Koala

Eine Vakuum-Depositionsanlage für Schichten zwecks Herstellung von Perowskit Solarzellen. Die Anlage soll als Cluster-Mehrkammer-System alle Schichten ohne Vakuumbruch auf einer Fläche von (200 x 200) mm2 (Silizium Wafergrößen M2-M6) abscheiden. Es sind die folgenden Depositionskammern notwendig: 1) Thermisches Aufdampfen von Perowskit Absorberschichten, wobei 5 oder mehr verschiedene organische und anorganische Precursor-Materialien separat oder gleichzeitig homogen aufgedampft werden können; 2) Thermisches Aufdampfen von organischen und anorganischen Kontaktschichten (HTL und ETL), aus vier oder mehr Quellen; 3) Thermische Atomic-Layer-Deposition (ALD) von Metalloxid Pufferschichten, Schichten von SnO2 abgeschieden bei 100oC als Referenzprozess; 4) Magnetron Sputtern bei Temperaturen von bis zu 250oC mit einem industrienahen Prozess, d. h. dynamisch, idealerweise von Rohrkathoden. Es soll vorgesehen werden: a) Sputtern von TCO Materialien mit minimaler Schädigung der darunterliegenden Perowskit Solarzelle durch Ionen-, Strahlungs- oder thermischen Einfluss, mit z. B. ITO als Referenzprozess; b) Pulsed-DC Sputtern von TCOs und anderen Metalloxiden, z. B. NiOx 4 a. und b. sollen entweder optional angeboten werden als 2 getrennte Sputterzonen oder als austauschbare Quelle in einer Sputterzone. Außerdem soll in die Sputterzone(n) optional separat geschleust werden können (also nicht über den zentralen Roboter). 5) Elektronenstrahl-Verdampfen von Metalloxiden, z. B. NiOx ist optional vorzusehen bzw. muss nachrüstbar sein. Die Anlage soll mit einer automatischen Steuerung incl. Rezeptverwaltung und einem kontaminationsfrei Probenhandlings-System, integrierten Carrier-Cassetten zum Prozessieren von mind. 10 Proben sowie einem abgestimmten Sicherheitskonzept angeboten werden. Für die Be- und Entladung der organischen Materialien (Quellen) müssen Gloveboxen vorgesehen werden.