teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
Auftraggeber: Fraunhofer ENAS
Fraunhofer ENAS hat einen Auftrag für „teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken“ in Chemnitz ausgeschrieben. Die Angebotsfrist endete am 16.09.2026. Ergebnis noch nicht veröffentlicht.
Die Angebote werden geprüft. Das Ergebnis ist noch nicht veröffentlicht. Sobald es erscheint, steht es hier.
Wer folgt, bekommt morgens eine E-Mail, sobald ein Ergebnis oder eine Änderung veröffentlicht ist.
Angaben in Kürze
Aus den Feldern, ohne KI- Was
- teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
- Wo
- Chemnitz, Sachsen
- Bis wann
- Angebotsfrist 16.09.2026, 12:00 Uhr
- Wer kann anbieten
- Jedes Unternehmen, das die Anforderungen der Vergabeunterlagen erfüllt.
Automatisch aus den Feldern der Bekanntmachung vom 29.08.2026, ohne KI. Maßgeblich ist die Bekanntmachung. Original lesen ↗ · Fehler melden
Leistungsumfang
Beschreibung laut BekanntmachungBeschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithografische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithografische Masken
Erfüllungsort
Verlauf
- 29.08.2026 Ausschreibung veröffentlicht