teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken
Auftraggeber: Fraunhofer ENAS
Fraunhofer ENAS hat einen Auftrag für „teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken“ in Chemnitz ausgeschrieben. Die Angebotsfrist endete am 20.03.2026. Bisher kein Ergebnis gefunden.
Wir haben bisher kein Ergebnis zu diesem Verfahren gefunden. Bei nationalen Verfahren wird es oft gar nicht oder ohne Bezug zur Ausschreibung veröffentlicht. Auskunft gibt die Vergabestelle.
Wer folgt, bekommt morgens eine E-Mail, sobald ein Ergebnis oder eine Änderung veröffentlicht ist.
Angaben in Kürze
Aus den Feldern, ohne KI- Was
- teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken
- Wo
- Chemnitz, Sachsen
- Bis wann
- Angebotsfrist 20.03.2026, 18:00 Uhr
- Wer kann anbieten
- Jedes Unternehmen, das die Anforderungen der Vergabeunterlagen erfüllt.
Automatisch aus den Feldern der Bekanntmachung vom 06.03.2026, ohne KI. Maßgeblich ist die Bekanntmachung. Original lesen ↗ · Fehler melden
Leistungsumfang
Beschreibung laut BekanntmachungBeschaffung eines teil-automatischen Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken in der Halbleiterindustrie zur Installation in einem Reinraum. Es müssen 6", 7" und 9" Masken durch ein mögliches Austauschen des Chucks gereinigt werden können. teil-automatisches Reinigungssystems für fotolithgrafische Masken
Erfüllungsort
Verlauf
- 06.03.2026 Ausschreibung veröffentlicht