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Abgelaufen Öffentliche Ausschreibung (national) · veröffentlicht am 09.11.2023

Resist-Simulations-Software

Auftraggeber: Fraunhofer Institut Photonische Mikrosysteme IPMS

Fraunhofer Institut Photonische Mikrosysteme IPMS hat einen Auftrag für „Resist-Simulations-Software“ in Dresden ausgeschrieben. Die Angebotsfrist endete am 10.12.2023. Bisher kein Ergebnis gefunden.

Die Angebotsfrist endete am 10.12.2023, 23:59 Uhr. Frist abgelaufen

Wir haben bisher kein Ergebnis zu diesem Verfahren gefunden. Bei nationalen Verfahren wird es oft gar nicht oder ohne Bezug zur Ausschreibung veröffentlicht. Auskunft gibt die Vergabestelle.

Wer folgt, bekommt morgens eine E-Mail, sobald ein Ergebnis oder eine Änderung veröffentlicht ist.

Angaben in Kürze

Aus den Feldern, ohne KI
Was
Resist-Simulations-Software
Wo
Dresden, Sachsen
Bis wann
Angebotsfrist 10.12.2023, 23:59 Uhr
Wer kann anbieten
Jedes Unternehmen, das die Anforderungen der Vergabeunterlagen erfüllt.

Automatisch aus den Feldern der Bekanntmachung vom 09.11.2023, ohne KI. Maßgeblich ist die Bekanntmachung. Original lesen ↗ · Fehler melden

Leistungsumfang

Beschreibung laut Bekanntmachung

The subject of this tender is a software for the simulation of the imaging process in optical micro-lithography. The soft- ware shall be modular so that different aspects of the imaging of microstructures in photoresist can be considered. De- pending on the requirements, the simulations will be performed in 2D for the aerial image or in 3D for the intensity distri- bution in the photoresist (bulk image) and the corresponding resist profile after development. By varying the input pa- rameters of the simulations such as exposure dose and focus or the layer thickness of photoresist and antireflection coat-ing (ARC), the process windows and optimal process parameters or layer thicknesses can be determined by displaying the results in e.g. bossing plots or swing curves. Furthermore, it should be possible to automatically optimize limited areas of mask layouts using a model-based optical near-field correction (model-based OPC) in order to achieve a higher imaging fidelity. Resist-Simulations-Software

Erfüllungsort

Ort
01109 Dresden
Kreis
Dresden
Bundesland
Sachsen
NUTS
DED

Verlauf

  1. 09.11.2023 Ausschreibung veröffentlicht
Quellen Bekanntmachung auf oeffentlichevergabe.de ↗ Vergabeunterlagen auf deutsche-evergabe.de ↗ Daten: Bekanntmachungsservice, Lizenz CC0. Namen und persönliche Kontaktdaten von Ansprechpersonen entfernen wir automatisch. Ist uns etwas entgangen? Fehler melden

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