Gloveboxsystem mit integriertem, gloveboxkompatiblem Dünnfilmbeschichtungssystem.

Es soll eine Laborversuchsanlage aufgebaut werden, in der niedrigdimensionale Halbleiterstrukturen hergestellt und passiviert werden können. Die Behandlung der Materialien muss dabei unter Luftausschluss, das heißt in einer Schutzgasatmosphäre von entweder reinem Ar oder N2, durchgeführt werden. Die Präparation von 2-dimensionalen Halbleiterstrukturen wird mit Hilfe eines Mikromanipulatoraufbaus, der bereits existiert und in die Anlage integriert werden soll, geschehen. Auf den Proben, die in diesem Schritt hergestellt werden, sollen in weiteren Schritten unterschiedliche Materialien durch physikalische Dampfabscheidung (PVD) abgeschieden werden. Die Empfindlichkeit der Proben macht einen direkten Probentransfer zwischen Schutzgasumgebung und PVD-Kammer zwingend notwendig.