Informationseinholung im Rahmen einer MARKTERKUNDUNG / MPG-MPL-240024 Beschaffung Mask aligner system
Auftraggeber: Max-Planck-Institut für die Physik des Lichts · Erlangen
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Angaben in Kürze
Aus den Feldern, ohne KI- Was
- Labor- und Messtechnik: Informationseinholung im Rahmen einer MARKTERKUNDUNG / MPG-MPL-240024 Beschaffung Mask aligner system
- Wo
- Erlangen, Bayern
- Bis wann
- siehe Unterlagen
- Wer kann anbieten
- Jedes Unternehmen, das die Anforderungen der Vergabeunterlagen erfüllt.
Automatisch aus den Feldern der Bekanntmachung vom 25.07.2024, ohne KI. Die Branche ordnen wir selbst zu. Maßgeblich ist die Bekanntmachung. Original lesen ↗ · Fehler melden
Leistungsumfang
Beschreibung laut BekanntmachungEs handelt sich nicht um ein Vergabeverfahren! Es ist eine unverbindliche Informationsabfrage, die allein der Markterkundung gemäß § 20 Unterschwellenvergabeverordnung (UVgO) dient. Das Max-Planck-Institut für die Physik des Lichts beabsichtigt den Kauf eines Mask-Aligners mit nachfolgenden Spzifikationen: Der Mask Aligner muss alle Werkzeuge enthalten, die zur Steuerung des gesamten Mikrofabrikationsprozesses vom Laden der Wafer bis zur Belichtung erforderlich sind. Im Einzelnen: - Maskenhalter zum Laden von 5" und 7" quadratischen Chrom-Fotomasken und flexiblen Film-Fotomasken - Ein einzelner Probenhalter zum Laden von Substraten unterschiedlicher Größe, einschließlich Siliziumwafern bis zu 6“ - Ein Ausrichtungssystem mit einer XYZ-Substratverschiebungsauflösung von weniger als 0,5 µm zur Steuerung der Maskenposition relativ zum Substrat mit einer Ausrichtungsgenauigkeit von 1 µm. - …
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Es handelt sich nicht um ein Vergabeverfahren! Es ist eine unverbindliche Informationsabfrage, die allein der Markterkundung gemäß § 20 Unterschwellenvergabeverordnung (UVgO) dient. Das Max-Planck-Institut für die Physik des Lichts beabsichtigt den Kauf eines Mask-Aligners mit nachfolgenden Spzifikationen: Der Mask Aligner muss alle Werkzeuge enthalten, die zur Steuerung des gesamten Mikrofabrikationsprozesses vom Laden der Wafer bis zur Belichtung erforderlich sind. Im Einzelnen: - Maskenhalter zum Laden von 5" und 7" quadratischen Chrom-Fotomasken und flexiblen Film-Fotomasken - Ein einzelner Probenhalter zum Laden von Substraten unterschiedlicher Größe, einschließlich Siliziumwafern bis zu 6“ - Ein Ausrichtungssystem mit einer XYZ-Substratverschiebungsauflösung von weniger als 0,5 µm zur Steuerung der Maskenposition relativ zum Substrat mit einer Ausrichtungsgenauigkeit von 1 µm. - Ausgestattet mit einer UV-LED-Quelle (Wellenlänge 365±5 nm), die im kontinuierlichen oder gepulsten Modus arbeitet und eine qualitativ hochwertige Kollimation (Divergenzwinkel von weniger als 2º) bietet, mit der Auflösungen von bis zu 1 µm erreicht werden können, ohne dass ein Vakuumkontaktmodus erforderlich ist, und mit einer homogenen Belichtung (±5% Abweichung) über einen Bereich von 6“. - Ein Antivibrationstisch für den stabilen Betrieb des Instruments Sofern Sie die oben beschriebene Leistung anbieten können, bitten wir um Zusendung aussagekräftiger Unterlagen und Referenzen bis spätestens 06.08.2024, 12:00 Uhr. Mask aligner system, UV exposure system
Erfüllungsort
Verlauf
- 25.07.2024 Ausschreibung veröffentlicht
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