# Spin-Coating-Cluster für diverse Wafer

Zuschlag erteilt

Universität der Bundeswehr München (UniBw M) hat den Auftrag für Labor- und Messtechnik im Landkreis München am 30.05.2023 vergeben, Zuschlag an SUSS MicroTec Solutions GmbH & Co. KG.

- Auftraggeber: Universität der Bundeswehr München (UniBw M)
- Was: Labor- und Messtechnik: Spin-Coating-Cluster für diverse Wafer
- Wo: Landkreis München, Bayern
- Wer kann anbieten: Jedes Unternehmen, das die Anforderungen der Vergabeunterlagen erfüllt.
- Zuschlag an: SUSS MicroTec Solutions GmbH & Co. KG
- Zuschlag am: 30.05.2023
- Summe: nicht veröffentlicht
- Angebote: nicht veröffentlicht

## Gewinner

- [SUSS MicroTec Solutions GmbH & Co. KG](https://vergabeweiser.de/unternehmen/suss-microtec-solutions-gmbh-co-kg), Sternenfels

## Leistungsumfang

Die Universität der Bundeswehr plant im Rahmen des DTEC Projekts die Beschaffung eines manuell zu bedienen Spincoating-Clusters zur Aufbringung von lichtsensitiven Schichten sogenannten Fotolacken. Die Flexibilität des Gerätes (unterschiedliche Waferformate und Beschichtungsmaterialien) und die Qualität der erzielbaren Ergebnisse sind wesentlich. Im Bereich der Halbleitertechnologie spielt die sogenannte Lithographie eine entscheidende Rolle. Dabei werden Strukturen mithilfe eines optischen Systems in eine lichtsensitive Schicht geschrieben. Das hier zu beschaffende Spincoating-Cluster besteht aus einem Spin-Coater und einer Heizplatte (Hotplate). Dabei wird auf dem Spin-Coater unter Rotationsgeschwindigkeit der Fotolack aufgebracht und anschließend auf der Heizplatte ausgeheizt. Dies ist notwendig damit der Lack mechanisch und chemisch stabilisiert wird. Dabei wir eine hohe Anforderung an Homogenität und Partikelfreiheit der Schicht gelegt. Dies ist notwendig da sonst der anschließende Belichtungsprozess zu keinen zufriedenstellenden Ergebnissen führt. Für diesen Vorgang werden hoch präzise Anlagen benötigt, die eine solche Auftragung reproduzierbar und flexibel ermöglichen. Zusätzlich muss das Clustertool eine hohe Flexibilität in Punkten wie verschiedene Fotolacke, unterschiedliche Substratgrößen und verschiedene Ausheizprogramme aufweisen. Aus diesem Grund soll die Bedienung manuell erfolgen. Aufgrund der beengten Platzverhältnisse im Labor kann nur ein Gerät als Clustertool aufgestellt werden. Neben den prozessrelevanten Details der Anlagen, ist ebenso die sichere Anwendung für den Operator zu beachten. Hierbei gilt es zu gewährleisten, dass ein erhöhtes Gefahrenpotential durch mechanische, sowie chemische Komponenten ausgeschlossen wird.

## Angaben laut Bekanntmachung

- Verfahren: Offenes Verfahren (EU-weit)
- Art des Auftrags: Lieferung
- Geschätzter Wert: nicht angegeben
- CPV-Code: 38000000-5
- CPV-Bezeichnung: [Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)](https://vergabeweiser.de/cpv/38000000-laborgeraete-optische-geraete-und-praezisionsgeraete-ausser)
- Bekanntmachungs-ID: 0d175c20-d7c7-4413-9723-10c7be1ef976

## Verlauf

- 03.08.2023: Ergebnis veröffentlicht

## Häufige Fragen

**Wer hat den Auftrag bekommen?**
Den Zuschlag hat SUSS MicroTec Solutions GmbH & Co. KG erhalten.

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Automatisch aus den Feldern der Bekanntmachung vom 03.08.2023, ohne KI. Die Branche ordnen wir selbst zu. Stand: 31.10.2026.

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Quelle: Bekanntmachung auf oeffentlichevergabe.de (CC0), https://oeffentlichevergabe.de/ui/de/search/details?noticeId=0d175c20-d7c7-4413-9723-10c7be1ef976. Maßgeblich ist die Bekanntmachung. Seite: https://vergabeweiser.de/ausschreibung/spin-coating-cluster-fuer-diverse-wafer-0d175c20