# Kombinierte ALD-PVD/CVD-Beschichtungsanlage als Clustertool

Zuschlag erteilt · Nur 1 Angebot

Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. hat den Auftrag für Labor- und Messtechnik in Jena am 23.08.2021 vergeben, Zuschlag an Sentech GmbH. Zuschlagssumme nach den Angaben der Bekanntmachung: 1.086.937 €. Eingegangen: 1 Angebot.

- Auftraggeber: [Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.](https://vergabeweiser.de/vergabestelle/leibniz-institut-fuer-photonische-technologien-ev)
- Was: Labor- und Messtechnik: Kombinierte ALD-PVD/CVD-Beschichtungsanlage als Clustertool
- Wo: Jena, Thüringen
- Wer kann anbieten: Jedes Unternehmen, das die Anforderungen der Vergabeunterlagen erfüllt.
- Laufzeit: bis 31.08.2022
- Zuschlag an: Sentech GmbH
- Zuschlag am: 23.08.2021
- Summe: 1.086.937 €
- Angebote: 1

## Gewinner

- [Sentech GmbH](https://vergabeweiser.de/unternehmen/sentech-gmbh), Krailling

## Leistungsumfang

Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e. V. schreibt eine Beschichtungsanlage für die Abscheidung von metallischen sowie dielektrischen und nitridischen Schichten aus. Die ausgeschriebene Anlage soll zur Schichtabscheidung von ein- und mehrlagigen Funktionsmaterialien mit Schichtdicken von 1 nm bis 5 μm eingesetzt werden, welche ohne Vakuumunterbrechung insitu hergestellt werden können. Als Prozesse müssen in dieser Anlage ALD-Verfahren (Atomlagenabscheidung, auch plasmagestützt als PE-ALD) und PVD-Verfahren (physikalische Gasphasenabscheidung, Bedampfung) für Beschichtungen von diversen Funktionsschichten mit Schichtdicken (ds) von 1nm <= ds <= 500 nm, zur Verfügung stehen. Es ist zudem gefordert, SiO2, SixNy und SiOxNy auch mit höheren Wachstumsraten (GR>=10 nm/min) als die üblichen ALD-Verfahren, pinholefrei und für Schichtdicken (ds) im Bereich von 100 nm <= ds <= 5 μm zu realisieren, alternativ auch mittels plasma-gestütztem Gasphasenabscheidungsverfahren (PE-CVD) oder PVD. Die Anlage soll als Cluster-Tool reinraumtauglich konstruiert und durch die Wand zu installieren sein. Die Bedienung der Anlage erfolgt aus dem Reinraumbereich (ISO-Klasse 5, Weißbereich). Alle Schichtabscheidungen in diesem Cluster sollen mit hoher Reproduzierbarkeit ohne Vakuumunterbrechung kombinierbar, parallel und jeweils auch einzeln ausführbar sein. Es muss eine Homogenität (Schichtdicke, Leitfähigkeit, Brechungsindex) für alle Prozesse von <= 5 % über einer Fläche von 150 mm Durchmesser erreicht werden. — Wertungskriterien: technische Spezifikationen 75 %, Preis 25 %.

## Angaben laut Bekanntmachung

- Verfahren: Offenes Verfahren (EU-weit)
- Art des Auftrags: Lieferung
- Geschätzter Wert: nicht angegeben
- Nachprüfung: Vergabekammer beim Thüringer Landesverwaltungsamt
- CPV-Code: 38000000-5
- CPV-Bezeichnung: [Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)](https://vergabeweiser.de/cpv/38000000-laborgeraete-optische-geraete-und-praezisionsgeraete-ausser)
- Bekanntmachungs-ID: 331236-2021

## Verlauf

- 02.07.2021: Ausschreibung veröffentlicht
- 27.08.2021: Ergebnis veröffentlicht

## Häufige Fragen

**Wer hat den Auftrag bekommen?**
Den Zuschlag hat Sentech GmbH erhalten, Summe 1.086.937 €.

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## Von hier aus weiter

- [Öffentliche Ausschreibungen in Jena](https://vergabeweiser.de/region/thueringen/jena): Offene Ausschreibungen aller Branchen
- [Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V.](https://vergabeweiser.de/vergabestelle/leibniz-institut-fuer-photonische-technologien-ev): Ausschreibungen und Zuschläge dieser Vergabestelle
- [Offenes Verfahren](https://vergabeweiser.de/wissen/offenes-verfahren): Wissen: Ablauf und Begriffe

Automatisch aus den Feldern der Bekanntmachung vom 27.08.2021, ohne KI. Die Branche ordnen wir selbst zu. Stand: 02.11.2026.

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Quelle: Bekanntmachung auf TED – Tenders Electronic Daily (© Europäische Union), https://ted.europa.eu/de/notice/-/detail/433387-2021. Maßgeblich ist die Bekanntmachung. Seite: https://vergabeweiser.de/ausschreibung/kombinierte-ald-pvdcvd-beschichtungsanlage-als-clustertool-3312362021